Elaboration et optimisation de l'alliage silicium-germanium (Si-Ge) en couches minces

dc.contributor.author	Zouaoui, Mohamed
dc.date.accessioned	2015-12-10T10:19:56Z
dc.date.available	2015-12-10T10:19:56Z
dc.date.issued	2012
dc.identifier.uri	http://hdl.handle.net/123456789/4245
dc.description	98 p. : ill. ; 30 cm. (+ CD-Rom)	fr_FR
dc.language.iso	fr	fr_FR
dc.subject	Silicium : Couches minces	fr_FR
dc.subject	Pulvérisation cathodique	fr_FR
dc.subject	Courants continus : Champs magnétiques	fr_FR
dc.subject	Semiconducteur amorphes	fr_FR
dc.title	Elaboration et optimisation de l'alliage silicium-germanium (Si-Ge) en couches minces	fr_FR
dc.type	Thesis	fr_FR