Analyse par faisceaux d'ions de couches minces à bases de silicium

dc.contributor.author	Chaal, Kahena
dc.date.accessioned	2016-02-09T11:34:30Z
dc.date.available	2016-02-09T11:34:30Z
dc.date.issued	2003
dc.identifier.uri	http://hdl.handle.net/123456789/4488
dc.description	92 p. : ill. ; 30 cm. (+ CD-Rom)	fr_FR
dc.language.iso	fr	fr_FR
dc.subject	Physique nucléaire	fr_FR
dc.subject	Couche mince, analyse	fr_FR
dc.subject	Faisceau d'ion, Silicium	fr_FR
dc.title	Analyse par faisceaux d'ions de couches minces à bases de silicium	fr_FR
dc.type	Thesis	fr_FR