Dépôt du silicium en couches mines à haute temperature par pulverisation en continu assistée d'un champ magnétique

dc.contributor.author	Cherfi, Rabah
dc.date.accessioned	2016-02-23T09:35:42Z
dc.date.available	2016-02-23T09:35:42Z
dc.date.issued	2002
dc.identifier.uri	http://hdl.handle.net/123456789/4602
dc.description	91 p. : fig. ; 29 cm.(+ microfiche, CD)	fr_FR
dc.language.iso	fr	fr_FR
dc.subject	Physique des matériaux	fr_FR
dc.subject	Silicium, couche mince	fr_FR
dc.subject	Champ magnétique	fr_FR
dc.title	Dépôt du silicium en couches mines à haute temperature par pulverisation en continu assistée d'un champ magnétique	fr_FR
dc.type	Thesis	fr_FR