Etude de structures à gradient d’indice de réfraction élaborées à base de SiNx et SiOxNy par PECVD pour des applications photovoltaïques

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dc.contributor.author Meziani, Samir
dc.date.accessioned 2017-09-14T09:00:37Z
dc.date.available 2017-09-14T09:00:37Z
dc.date.issued 2017
dc.identifier.uri http://hdl.handle.net/123456789/5469
dc.description 128 p. : ill. ; 30 cm (+ CD-Rom) fr_FR
dc.language.iso fr fr_FR
dc.subject Conversion photovoltaïque fr_FR
dc.subject Nitrures de silicium fr_FR
dc.subject Oxynitrures de silicium fr_FR
dc.subject Photopiles fr_FR
dc.subject Nanocristaux fr_FR
dc.subject Couches minces fr_FR
dc.title Etude de structures à gradient d’indice de réfraction élaborées à base de SiNx et SiOxNy par PECVD pour des applications photovoltaïques fr_FR
dc.type Thesis fr_FR


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