Apport du germanium dans les couches minces de silicium "élaboration, caractérisation et application aux dispositifs électroniques"

dc.contributor.author	Fedala, Abdelkrim
dc.date.accessioned	2021-02-02T13:02:02Z
dc.date.available	2021-02-02T13:02:02Z
dc.date.issued	2012-01-08
dc.identifier.uri	http://repository.usthb.dz//xmlui/handle/123456789/8472
dc.description	116 p. : ill. ; 30 cm. (+ CD-Rom)	en_US
dc.language.iso	fr	en_US
dc.subject	Germanium ; Silicium : couches minces ; Dépôt chimique en phase vapeur activé par plasma ; Pulvérisation ; Semiconducteurs amorphes ; Hydrogène ; Dilution	en_US
dc.title	Apport du germanium dans les couches minces de silicium "élaboration, caractérisation et application aux dispositifs électroniques"	en_US
dc.type	Thesis	en_US