Dépôt couche par couche et caractérisation du silicium amorphe effet de la température de dépôt et effet de la polarisation du porte-substrat

dc.contributor.author	Ben Abdelmoumen, Abdelmadjid
dc.date.accessioned	2015-06-22T11:17:04Z
dc.date.available	2015-06-22T11:17:04Z
dc.date.issued	2007
dc.identifier.uri	http://hdl.handle.net/123456789/3099
dc.description	96 p. : ill. ; 30 cm. (+ CD-Rom)	fr_FR
dc.language.iso	fr	fr_FR
dc.subject	Semiconducteurs amorphes	fr_FR
dc.subject	Silicium : substrats	fr_FR
dc.title	Dépôt couche par couche et caractérisation du silicium amorphe effet de la température de dépôt et effet de la polarisation du porte-substrat	fr_FR
dc.type	Thesis	fr_FR