Elaboration de couche de nitrures de silicium par PECVD à basse température adaptées à la passivation des structures MIS

Elaboration de couche de nitrures de silicium par PECVD à basse température adaptées à la passivation des structures MIS

Mefoued, Amine
URI: http://hdl.handle.net/123456789/4068
Date: 2011

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92 p. : ill. ; 30 cm. (+ CD-Rom)

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