Dépôt du silicium en couches mines à haute temperature par pulverisation en continu assistée d'un champ magnétique

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dc.contributor.authorCherfi, Rabah
dc.date.accessioned2016-02-23T09:35:42Z
dc.date.available2016-02-23T09:35:42Z
dc.date.issued2002
dc.description91 p. : fig. ; 29 cm.(+ microfiche, CD)fr_FR
dc.identifier.urihttp://hdl.handle.net/123456789/4602
dc.language.isofrfr_FR
dc.subjectPhysique des matériauxfr_FR
dc.subjectSilicium, couche mincefr_FR
dc.subjectChamp magnétiquefr_FR
dc.titleDépôt du silicium en couches mines à haute temperature par pulverisation en continu assistée d'un champ magnétiquefr_FR
dc.typeThesisfr_FR

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