Dépôt couche par couche et caractérisation du silicium amorphe effet de la température de dépôt et effet de la polarisation du porte-substrat

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dc.contributor.authorBen Abdelmoumen, Abdelmadjid
dc.date.accessioned2015-06-22T11:17:04Z
dc.date.available2015-06-22T11:17:04Z
dc.date.issued2007
dc.description96 p. : ill. ; 30 cm. (+ CD-Rom)fr_FR
dc.identifier.urihttp://hdl.handle.net/123456789/3099
dc.language.isofrfr_FR
dc.subjectSemiconducteurs amorphesfr_FR
dc.subjectSilicium : substratsfr_FR
dc.titleDépôt couche par couche et caractérisation du silicium amorphe effet de la température de dépôt et effet de la polarisation du porte-substratfr_FR
dc.typeThesisfr_FR

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