Etude de structures à gradient d’indice de réfraction élaborées à base de SiNx et SiOxNy par PECVD pour des applications photovoltaïques

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dc.contributor.authorMeziani, Samir
dc.date.accessioned2017-09-14T09:00:37Z
dc.date.available2017-09-14T09:00:37Z
dc.date.issued2017
dc.description128 p. : ill. ; 30 cm (+ CD-Rom)fr_FR
dc.identifier.urihttp://hdl.handle.net/123456789/5469
dc.language.isofrfr_FR
dc.subjectConversion photovoltaïquefr_FR
dc.subjectNitrures de siliciumfr_FR
dc.subjectOxynitrures de siliciumfr_FR
dc.subjectPhotopilesfr_FR
dc.subjectNanocristauxfr_FR
dc.subjectCouches mincesfr_FR
dc.titleEtude de structures à gradient d’indice de réfraction élaborées à base de SiNx et SiOxNy par PECVD pour des applications photovoltaïquesfr_FR
dc.typeThesisfr_FR

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