Apport du germanium dans les couches minces de silicium "élaboration, caractérisation et application aux dispositifs électroniques"
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Date
2012-01-08
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Abstract
Description
116 p. : ill. ; 30 cm. (+ CD-Rom)
Keywords
Germanium ; Silicium : couches minces ; Dépôt chimique en phase vapeur activé par plasma ; Pulvérisation ; Semiconducteurs amorphes ; Hydrogène ; Dilution