Apport du germanium dans les couches minces de silicium "élaboration, caractérisation et application aux dispositifs électroniques"
| dc.contributor.author | Fedala, Abdelkrim | |
| dc.date.accessioned | 2021-02-02T13:02:02Z | |
| dc.date.available | 2021-02-02T13:02:02Z | |
| dc.date.issued | 2012-01-08 | |
| dc.description | 116 p. : ill. ; 30 cm. (+ CD-Rom) | en_US |
| dc.identifier.uri | http://repository.usthb.dz//xmlui/handle/123456789/8472 | |
| dc.language.iso | fr | en_US |
| dc.subject | Germanium ; Silicium : couches minces ; Dépôt chimique en phase vapeur activé par plasma ; Pulvérisation ; Semiconducteurs amorphes ; Hydrogène ; Dilution | en_US |
| dc.title | Apport du germanium dans les couches minces de silicium "élaboration, caractérisation et application aux dispositifs électroniques" | en_US |
| dc.type | Thesis | en_US |