Elaboration et optimisation de l'alliage silicium-germanium (Si-Ge) en couches minces
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Date
2012
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Description
98 p. : ill. ; 30 cm. (+ CD-Rom)
Keywords
Silicium : Couches minces, Pulvérisation cathodique, Courants continus : Champs magnétiques, Semiconducteur amorphes